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精诚小编带你了解平面抛光机的抛光轨迹对抛光性能的影响

来源:hetwkz.com 发表时间:2017-02-07

  抛光机大家不陌生,我们之前也介绍过,今天我们介绍的是抛光机的抛光轨迹对抛光性能的影响。
  抛光精度,即抛光性能,是平面抛光机采购商及供货商共同关注的焦点。抛光轨迹是影响抛光性能根本的影响因素。
  平面抛光机的抛光轨迹根据加工工件及加工盘的不同相对运动,有定偏心研磨轨迹、不定偏心研磨轨迹、直线式研磨轨迹、摇摆式研磨轨迹、方形分形研磨轨迹,行星式研磨轨迹等等。
  定偏心研磨轨迹的工件材料去除均匀性较差,越靠近工件中心材料去除率越低。一般只用于加工直径不大于200mm的小尺寸工件。其中高精密研磨抛光机就是这种。
  不定偏心式研磨轨迹,其均匀性明显好于定偏心式轨迹,有利于工件面形精度的提高。适合于直径大于200mm的大尺寸工件的加工。量产型镜面抛光机的研磨抛光轨迹就是这种类型。
  直线式研磨使用的不是抛光盘,而是具有柔性的砂带,工件做单纯的回转运动。平面研磨抛光机自修整机构的刀具在研磨盘上的轨迹也就是这种。此种运动形式简单,如将研磨带加长可以形成批量生产,生产效率高。
  摇摆式研磨轨迹比定偏心双轴式或直线式研磨更均匀。轨迹在加工面中心呈几种的趋势,是工件加工面中心处有凹陷的现象。
  行星式平面研磨运动轨迹最常见用于双面研磨机,当改变研磨盘转速和太阳转速之比时,工作效率及材料去除率会发生变化。
  小编介绍之后是不是已经了解了?如果大家需要抛光机可以电话联系我们,因为我们是一家专门销售抛光机的公司。欢迎新老客户电话咨询!




  

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